光電子分光と基板曲率測定によるSi(110)初期酸化過程の評価
光電子分光と基板曲率測定によるSi(110)初期酸化過程の評価
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使用光电子能谱和基底曲率测量评估 Si(110) 的初始氧化过程
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山本喜久,鈴木康,宮本優,ローランド・バンタクロー,末光眞希,遠田義晴,寺岡有殿,吉越章隆,朝岡秀人,山崎竜也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Soichiro Sekine;Hirokazu Kaji;Takashi Abe and Matsuhiko Nishizawa;山本喜久,鈴木康,宮本優,ローランド・バンタクロー,末光眞希,遠田義晴,寺岡有殿,吉越章隆,朝岡秀人,山崎竜也
