Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-Phase Plasma
Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-Phase Plasma
复制标题
使用多相等离子体开发新型光刻胶去除工艺
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Uesugi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Ishijima;K. Nosaka;Y. Goto; H. Horibe;Y. Tanaka;Y. Uesugi
