吉原 真哉: "真空紫外光によるSiウェハーの低温プロセス"宮崎大学工学部起要. 28. 181-188 (1999)
吉原 真哉: "真空紫外光によるSiウェハーの低温プロセス"宮崎大学工学部起要. 28. 181-188 (1999)
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Shinya Yoshihara：“使用真空紫外光的硅晶片的低温处理”，宫崎大学工学部，28. 181-188 (1999)。
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