Tuning of Nanopatterns on Si (100) Substrate: Role of Ion Beam Processing Parameters During Sputtering
Tuning of Nanopatterns on Si (100) Substrate: Role of Ion Beam Processing Parameters During Sputtering
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Si (100) 基板上纳米图案的调整：溅射过程中离子束处理参数的作用
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
D. Ghose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Debasree Chowdhury;D. Ghose
