University of Colorado Boulder(米国)
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科罗拉多大学博尔德分校（美国）
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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影响因子：
56.9
作者：
Rego, Laura;Dorney, Kevin M.;Hernandez-Garcia, Carlos
通讯作者：
Hernandez-Garcia, Carlos
EUV 光掩模中高周期结构的稳健且可靠的光化叠层成像
DOI：
10.1117/12.2641726
发表时间：
2022
期刊：
Photomask Technology
影响因子：
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作者：
Bin Wang;Nathan J Brooks;M. Tanksalvala;Yuka Esashi;Nicolas Jenkins;Peter C Johnsen;I. Binnie;Guan Gui;Yunzhe Shao;M. Murnane;H. Kapteyn
通讯作者：
H. Kapteyn
使用相干衍射成像对 EUV 掩模版上的吸收体和相位缺陷进行定量表征
DOI：
10.1117/1.jmm.19.1.014002
发表时间：
2020
期刊：
Journal of Edugeography
影响因子：
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作者：
I. Mochi;Sara Fernández;R. Nebling;U. Locans;R. Rajeev;A. Dejkameh;D. Kazazis;L. Tseng;S. Danylyuk;L. Juschkin;Y. Ekinci
通讯作者：
Y. Ekinci
用于光化 EUV 掩模计量的扫描相干衍射成像方法
DOI：
10.1117/12.2219937
发表时间：
2016
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
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作者：
P. Helfenstein;I. Mohácsi;R. Rajendran;Y. Ekinci
通讯作者：
Y. Ekinci
影响因子：
13.6
作者：
Rego L;Brooks NJ;Nguyen QLD;Román JS;Binnie I;Plaja L;Kapteyn HC;Murnane MM;Hernández-García C
通讯作者：
Hernández-García C