Y.FUKUSHIMA: "PhotoーChemical Vapor Deposition of Al_2O_3 Thin Films with High Quantum Yield" Jpn.J.Appl.Phys.31. L261-L264 (1992)
Y.FUKUSHIMA: "PhotoーChemical Vapor Deposition of Al_2O_3 Thin Films with High Quantum Yield" Jpn.J.Appl.Phys.31. L261-L264 (1992)
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Y.FUKUSHIMA：“高量子产率的 Al_2O_3 薄膜的光化学气相沉积”Jpn.J.Appl.Phys.31 (1992)。
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