DECOMPOSITION AND PRODUCT FORMATION IN CF4-O2 PLASMA-ETCHING SILICON IN THE AFTERGLOW
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DOI：
10.1063/1.329812
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发表时间：
1981-01-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
VANDEPOLL, RPJ
中科院分区：
文献类型：
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作者：
BEENAKKER, CIM;VANDOMMELEN, JHJ;VANDEPOLL, RPJ
