Y.Oshikane, S.Kawashima, et al.: "Electric Impedance Measurement and Pulsed OPO Laser Induced Fluorescence Study of Capacitevely Coupled VHF Plasma(He/CF_4/0_2)atA+mospheric Pressure for Chemical Vaporization Machining (CVM)"Bulletin of The American Physi
Y.Oshikane, S.Kawashima, et al.: "Electric Impedance Measurement and Pulsed OPO Laser Induced Fluorescence Study of Capacitevely Coupled VHF Plasma(He/CF_4/0_2)atA+mospheric Pressure for Chemical Vaporization Machining (CVM)"Bulletin of The American Physi
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Y.Oshikane、S.Kawashima 等人：“用于化学汽化加工 (CVM) 的大气压下电容耦合 VHF 等离子体 (He/CF_4/0_2) 的阻抗测量和脉冲 OPO 激光诱导荧光研究”美国通报
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