大面積電子ビーム照射法による高アスペクト比穴底面仕上げ
大面積電子ビーム照射法による高アスペクト比穴底面仕上げ
复制标题
采用大面积电子束照射法的高深宽比孔底精加工
DOI：
--
复制
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
木村充宏，篠永東吾，岡田 晃，井上基弘
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Mituhiro Kimura;Togo Shinonaga;Motohiro Inoue;Akira Okada;木村充宏，篠永東吾，岡田 晃，井上基弘
