Fatigue of polycrystalline silicon for microelectromechanical system applications: crack growth and stability under resonant loading conditions
Fatigue of polycrystalline silicon for microelectromechanical system applications: crack growth and stability under resonant loading conditions
复制标题
用于微机电系统应用的多晶硅疲劳：谐振负载条件下的裂纹扩展和稳定性
DOI：
10.1016/s0167-6636(03)00028-0
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发表时间：
2004
影响因子：
3.9
通讯作者：
R. Ritchie
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
C. Muhlstein;R. Howe;R. Ritchie
DOI：
10.1007/978-0-387-92897-5_100470
发表时间：
1991
期刊：
--
影响因子：
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作者：
S. Suresh
通讯作者：
S. Suresh
Tada, H.：“感觉形态和精神负荷对眨眼率的影响。”
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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作者：
通讯作者：
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