Ultraprecise fabrication of X-ray mirrors for XFEL sub-10 nm focusing system based on Wolter type III geometry
Ultraprecise fabrication of X-ray mirrors for XFEL sub-10 nm focusing system based on Wolter type III geometry
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基于 Wolter III 几何结构的 XFEL 亚 10 nm 聚焦系统 X 射线镜的超精密制造
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Yamauchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Inoue;J. Yamada;S. Matsuyama;N. Nakamura;T. Osaka;H. Yumoto;T. Koyama;H. Ohashi;M. Yabashi;T. Ishikawa;and K. Yamauchi
