シリコンの光電子分光:ボロン濃度依存性/ Photoemission study of silicon : boron concentration dependence
シリコンの光電子分光:ボロン濃度依存性/ Photoemission study of silicon : boron concentration dependence
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硅的光电子研究：硼浓度依赖性
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
横谷尚睦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
脇田高徳;岡崎宏之;佐伯邦成;小野雅紀;江口豊明;奥田太一;原沢あゆみ;松田巌;長谷川幸雄;高野義彦;平井正明;村岡祐治;横谷尚睦
