放射光X線光電子分光を用いたTiAl表面酸化反応の研究
放射光X線光電子分光を用いたTiAl表面酸化反応の研究
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同步辐射X射线光电子能谱研究TiAl表面氧化反应
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
橋之口道宏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Tokizane;K.Shimatake;Y.Toda;K.Oka;M.Tsubota;S.Tanda;R.Morita;橋之口道宏
