スリットパターン化したCoFe系高飽和磁化膜の磁気特性と異方性磁界制御

スリットパターン化したCoFe系高飽和磁化膜の磁気特性と異方性磁界制御
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狭缝CoFe基高饱和磁化薄膜的磁性能及各向异性磁场控制

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
日本応用磁気学会誌 28・9
影响因子:
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通讯作者:
荒木 和幸 (業績4)
荒木 和幸 (業績4)
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
M.Munakata (業績5);S.I.Aoqui;中山 英俊;M.Munakata;S.I.Aoqui;H.Nakayama;M.Munakata;S.I.Aoqui;中山 英俊;K.Takizawa;H.Nakayama;M.Munakata(業績5);中山 英俊 (業績2-1);宗像 誠 (業績2-2);並河 雅志 (業績3);荒木 和幸 (業績4)

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