Deposition of a-C:H Film on Inner Surface of the Tube by Nanopulse Plasma CVD and Analysis of Plasma Behavior
Deposition of a-C:H Film on Inner Surface of the Tube by Nanopulse Plasma CVD and Analysis of Plasma Behavior
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纳脉冲等离子体 CVD 在管内表面沉积 a-C:H 薄膜及等离子体行为分析
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Naoto Ohtake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuki Hirata;Keitaro Takenami;Ryouta Takamura;Yoshinao Iwamoto;Hiroki Akasaka;Naoto Ohtake
