基于四硫富瓦烯新型弯曲电子给体的合成、结构与氧化还原性质
基于四硫富瓦烯新型弯曲电子给体的合成、结构与氧化还原性质
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DOI：
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发表时间：
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影响因子：
1.9
通讯作者：
肖勋文
中科院分区：
文献类型：
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作者：
王冠南;卞茜茜;沈梁鈞;刘旭峰;肖勋文
