T.Fukumura, M.Ohtani, J.Nishimura, T.Kageyama, T.Koida, M.Lippmaa, M.Kawasaki, T.Hasegawa, H.Koinuma: "Temperature-gradient and composition-spread deposition of epitaxial oxide films and high throughput characterization"Proc.SPIE. 4281. 17-26 (2001)
T.Fukumura, M.Ohtani, J.Nishimura, T.Kageyama, T.Koida, M.Lippmaa, M.Kawasaki, T.Hasegawa, H.Koinuma: "Temperature-gradient and composition-spread deposition of epitaxial oxide films and high throughput characterization"Proc.SPIE. 4281. 17-26 (2001)
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T.Fukumura、M.Ohtani、J.Nishimura、T.Kageyama、T.Koida、M.Lippmaa、M.Kawasaki、T.Hasekawa、H.Koinuma：“外延氧化膜的温度梯度和成分扩散沉积以及
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