トポロジカル絶縁体カルコゲナイド薄膜のスパッタ法による高配向成膜
トポロジカル絶縁体カルコゲナイド薄膜のスパッタ法による高配向成膜
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溅射法高定向沉积拓扑绝缘体硫系薄膜
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中野隆志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
齊藤雄太;富永淳二;牧野孝太郎;フォンスポール;コロボフアレクサンダー;中野隆志
