Annealing effects on etching characteristics of spin-coated silicon oxide films with anhydrous hydrogen fluoride gas
Annealing effects on etching characteristics of spin-coated silicon oxide films with anhydrous hydrogen fluoride gas
复制标题
退火对无水氟化氢气体旋涂氧化硅薄膜刻蚀特性的影响
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N.Nakamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Saito;N.Nakamura
