Comparison of dual-window and convolution scatter correction techniques using the Monte Carlo method
Comparison of dual-window and convolution scatter correction techniques using the Monte Carlo method
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使用蒙特卡罗方法比较双窗口和卷积散射校正技术
DOI：
--
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发表时间：
1990
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S. Strand
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Ljungberg;P. Msaki;S. Strand
为了提高SPECT测量的精度，必须使用校正方法。采用蒙特卡罗方法模拟投影数据，比较了两种不同的散射校正技术——双窗（DW）技术和卷积（CV）技术。并与实测数据进行了比较，验证了蒙特卡罗代码的准确性。主要目的是研究使用这两种散点校正技术估计的散点分布与在光峰窗口中获得的投影数据的模拟真实散点分布的拟合程度。CV技术预测的散射分布始终低于蒙特卡罗方法模拟的散射分布，这部分分布与源的位置相对应。DW技术给出的散点分布估计值较低。然而，DW技术估计的散射分布与模拟的散射分布具有非常接近的相似性。
In order to improve the accuracy of SPECT measurements, correction methods have to be used. Two different scatter correction techniques-the dual-window (DW) technique and the convolution (CV) technique-were compared using projection data, simulated by the Monte Carlo method. Comparison with measured data was also made to validate the accuracy of the Monte Carlo code. The main goal was to investigate how well the estimated scatter distributions, using these two scatter correction techniques, fit the simulated, true scatter distribution of the projection data obtained in the photo-peak window. The scatter distributions predicted by the CV technique were found to be consistently lower than those simulated by the Monte Carlo method in the part of the scatter distribution corresponding to the locations of the sources. The DW technique gives lower estimates of the scatter distribution. However, the scatter distribution estimated by the DW technique and the simulated scatter distribution bear a close resemblance to each other.
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