Eisuke Tokumitsu: "Characterization of HfO_2 Films Grown on Silicon Substrates by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition"Applied Surface Science. (印刷中). (2002)
Eisuke Tokumitsu: "Characterization of HfO_2 Films Grown on Silicon Substrates by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition"Applied Surface Science. (印刷中). (2002)
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Eisuke Tokumitsu：“通过金属有机化学气相沉积在硅基底上生长的 HfO_2 薄膜的表征”应用表面科学（2002 年出版）。
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