Develoment of gas jet Z-pinch extreme ultraviolet source for next generation lithography
Develoment of gas jet Z-pinch extreme ultraviolet source for next generation lithography
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用于下一代光刻的气体喷射Z箍缩极紫外源的开发
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
I. Song;Y. Honma;K. Iwata;S. R. Mohanty;M. Watanabe;et. al.
