スパッタリング法で作製した酸化ハフニウム薄膜の磁気特性の評価
スパッタリング法で作製した酸化ハフニウム薄膜の磁気特性の評価
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溅射法制备氧化铪薄膜的磁性能评价
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
加藤大祐，宮崎怜雄奈，日原岳彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
梅澤道久;宮崎怜雄奈;日原岳彦;加藤大祐，宮崎怜雄奈，日原岳彦
