表面増強ラマン分光法による歪SiGe薄膜のLO/TOフォノン励起
表面増強ラマン分光法による歪SiGe薄膜のLO/TOフォノン励起
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通过表面增强拉曼光谱在应变 SiGe 薄膜中激发 LO/TO 声子
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小椋厚志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山本章太郎;小瀬村大亮;シティノルヒダヤー・ビンティ・チェモハマドユソフ;木嶋隆浩;今井亮佑;臼田宏治;小椋厚志
