Statistical Evaluation for Process damage using an Array Test Pattern in a Large Number of MOSFETs

Statistical Evaluation for Process damage using an Array Test Pattern in a Large Number of MOSFETs
复制标题

使用大量 MOSFET 中的阵列测试模式对工艺损坏进行统计评估

DOI：
--
复制
发表时间：
2010
期刊：
IEEE Transaction on Electron Devices (未定 掲載確定)
影响因子：
--
通讯作者：
Shunichi Watabe
Shunichi Watabe
中科院分区：
--
文献类型：
--
作者：
Shunichi Watabe;Akinobu Teramoto;Kenichi Abe;Takafumi Fujisawa;Naoto Miyamoto;Shigetoshi Sugawa;Tadahiro Ohmi;田澤源太;Soichiro Hidaka(共著);佐野健太郎;広渕崇宏;加藤弘之(共著);Shunichi Watabe

文献摘要

相似文献