集光照射下でのSi基板のHall移動度の温度依存性
集光照射下でのSi基板のHall移動度の温度依存性
复制标题
聚焦照射下硅衬底霍尔迁移率的温度依赖性
DOI：
--
复制
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
福山敦彦
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
髙内健二郎;碇哲雄;西岡賢祐;福山敦彦
