新規化学気相成長法によるsub-l nmグラフェンナノリボンの表面合成
新規化学気相成長法によるsub-l nmグラフェンナノリボンの表面合成
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使用新型化学气相沉积方法表面合成亚L纳米石墨烯纳米带
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
坂口 浩司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
矢野真葵;平野 善崇;小島 崇寛;中江 隆博;坂口 浩司
