Low temperature epitaxial growth of anatase TaON using anatase TiO2 seed layer
Low temperature epitaxial growth of anatase TaON using anatase TiO2 seed layer
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使用锐钛矿型 TiO2 种子层低温外延生长锐钛型 TaON
DOI：
10.7567/jjap.54.080303
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发表时间：
2015
影响因子：
1.5
通讯作者：
Tomoteru Fukumura and Tetsuya Hasegawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Atsushi Suzuki;Yasushi Hirose;Daichi Oka;Shoichiro Nakao;Tomoteru Fukumura and Tetsuya Hasegawa
