Ballistic Deposition on a Planar Strip
Ballistic Deposition on a Planar Strip
复制标题
平面带上的弹道沉积
DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Min Kang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Atar;S. Athreya;Min Kang
考虑有限条$[0，L-1]$乘以$mathbb {Z}^2 $上的弹道扩散限制聚集，其中$L$在$mathbb {Z}_+$中.我们提供的高度过程中的增长的数值界限。
We consider ballistic diffusion limited aggregation on a finite strip $[0, L-1]$ times $mathbb{Z}_+$ in $mathbb{Z}^2$ for some $L$ in $mathbb{Z}_+$. We provide numerical bounds on the growth in the height process.