かさ高いRind 基を有するジホスフェンの酸化反応
かさ高いRind 基を有するジホスフェンの酸化反応
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二膦与大Rind基团的氧化反应
DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
辻本祥太・橋爪大輔・松尾司
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Shogo Oshima;Tomonori Nomoto;Taro Toyota;Masanori Fujinami;辻本祥太・橋爪大輔・松尾司