Structure and characteristics of amorphous (Ti,Si)–C:H films deposited by reactive magnetron sputtering
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DOI：
10.1016/j.diamond.2010.05.005
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发表时间：
2010-10
影响因子：
4.1
通讯作者：
Jinlong Jiang;Junying Hao;Xianjuan Pang;Peng Wang;Wei-min Liu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jinlong Jiang;Junying Hao;Xianjuan Pang;Peng Wang;Wei-min Liu
