Osamu Tabata: "Moving mask deep X-ray lithography system with multi stage for 3-D Microfabrication"Microsystem Technologies. 8. 93-98 (2002)
Osamu Tabata: "Moving mask deep X-ray lithography system with multi stage for 3-D Microfabrication"Microsystem Technologies. 8. 93-98 (2002)
复制标题
Osamu Tabata：“用于 3D 微加工的多级移动掩模深 X 射线光刻系统”Microsystem Technologies。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
