エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第3報)-回路パターンが欠陥検出に及ぼす影響の理論的検討-
エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第3報)-回路パターンが欠陥検出に及ぼす影響の理論的検討-
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利用倏逝光的纳米立体光刻技术研究（第三次报告）-电路图案对缺陷检测影响的理论研究-
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高橋哲
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉岡淑江;三好隆志;高谷裕浩;高橋哲
