Fate of interaction-driven topological insulators under disorder
Fate of interaction-driven topological insulators under disorder
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无序状态下相互作用驱动的拓扑绝缘体的命运
DOI：
10.1103/physrevb.96.201104
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发表时间：
2017-10
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Dmitry V. Efremov
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jing Wang;Carmine Ortix;Jeroen van den Brink;Dmitry V. Efremov
我们分析了无序对二维费米系统二次带交叉点（QBCP）弱耦合不稳定性的影响，在干净极限下，二维费米系统表现出相互作用驱动的拓扑绝缘相.在重正化群程序的框架内，它对待费米相互作用和无序在同一个立足点，我们测试所有可能的不稳定性，并确定相应的有序相存在的单谷和双谷QBCP系统的无序。我们发现，无序一般抑制临界温度在相互作用驱动的拓扑非平凡的顺序集。强无序也可以驱动拓扑相变到拓扑平凡的绝缘状态。
We analyze the effect of disorder on the weak-coupling instabilities of a quadratic band crossing point (QBCP) in two-dimensional Fermi systems, which, in the clean limit, display interaction-driven topological insulating phases. In the framework of a renormalization group procedure, which treats fermionic interactions and disorder on the same footing, we test all possible instabilities and identify the corresponding ordered phases in the presence of disorder for both single-valley and two-valley QBCP systems. We find that disorder generally suppresses the critical temperature at which the interaction-driven topologically nontrivial order sets in. Strong disorder can also drive a topological phase transition into a topologically trivial insulating state.
影响因子：
4.1
作者：
R. Stephenson
通讯作者：
R. Stephenson
DOI：
10.1017/cbo9780511973765
发表时间：
1999-04
期刊：
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影响因子：
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作者：
Subir Sachdev
通讯作者：
Subir Sachdev