Deposition rate characteristics for steady state high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) discharges generated with a modulated pulsed power (MPP) generator
Deposition rate characteristics for steady state high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) discharges generated with a modulated pulsed power (MPP) generator
复制标题
DOI：
10.1016/j.tsf.2011.09.004
复制
发表时间：
2011-12
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
F. Papa;H. Gerdes;R. Bandorf;A. Ehiasarian;I. Kolev;G. Braeuer;R. Tietema;T. Krug
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
F. Papa;H. Gerdes;R. Bandorf;A. Ehiasarian;I. Kolev;G. Braeuer;R. Tietema;T. Krug
