Atomic layer deposition of phosphorus oxide films as solid sources for doping of semiconductor structures
Atomic layer deposition of phosphorus oxide films as solid sources for doping of semiconductor structures
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氧化磷薄膜的原子层沉积作为半导体结构掺杂的固体源
DOI：
10.1109/nano.2018.8626235
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
E. P. Burte
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B. Kalkofen;B. Ahmed;S. Beljakowa;M. Lisker;Y. S. Kim;E. P. Burte
