Efficient photochemical conversion of N_2O into N_2 and O_2 by 193 nm ArF excimer laser in N_2 or Air at atmosphere pressure"
Efficient photochemical conversion of N_2O into N_2 and O_2 by 193 nm ArF excimer laser in N_2 or Air at atmosphere pressure"
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大气压下N_2O或空气中193 nm ArF准分子激光将N_2O高效光化学转化为N_2和O_2"
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Tsuji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Tsuji;H.Sako;K.Noda;M.Senda;T.Hamagami;T.Tsuji
