Atomically Controlled Processing for Group IV Semiconductors by Chemical Vapor Deposition (Invited Review Paper)
Atomically Controlled Processing for Group IV Semiconductors by Chemical Vapor Deposition (Invited Review Paper)
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通过化学气相沉积对 IV 族半导体进行原子控制加工（特邀评论论文）
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J.Murota et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J.Uhm;et al.;H.Shim et al.;K.Sugawara et al.;H.-S.Cho et al.;A.Yamada et al.;J.Murota et al.
