Resistivities and Hole Mobilities in Very Heavily Doped Germanium

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重掺杂锗中的电阻率和空穴迁移率

DOI:
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发表时间:
1958
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
A. Tartaglia
A. Tartaglia
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
F. Trumbore;A. Tartaglia

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