Chemical-state-resolved in-depth profiles in gate stack films studied by angle-resolved photoemission spectroscopy using synchrotron radiadon
Chemical-state-resolved in-depth profiles in gate stack films studied by angle-resolved photoemission spectroscopy using synchrotron radiadon
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使用同步辐射的角分辨光电子能谱研究栅堆叠薄膜中化学态分辨的深度剖面
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Usuda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Toyoda;J.okabayashi;M. oshima;Z.Liu;G.L.Liu;K.Ikeda;and K. Usuda
