K. Okuyama, T. Fujimoto M. Adachi and T. Hayashi: "Gas-Phase Nucleation in APCVD Thin Film Formation Process using Tetraethylorthosilicate (TEOS) /O_3 System" AIChE J.(掲載決定). (1997)
K. Okuyama, T. Fujimoto M. Adachi and T. Hayashi: "Gas-Phase Nucleation in APCVD Thin Film Formation Process using Tetraethylorthosilicate (TEOS) /O_3 System" AIChE J.(掲載決定). (1997)
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K. Okuyama、T. Fujimoto M. Adachi 和 T. Hayashi：“使用原硅酸四乙酯 (TEOS) /O_3 系统的 APCVD 薄膜形成过程中的气相成核”AIChE J.（1997 年出版）。
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