S.Takahashi,M.Ohashi,S.Fukatsu,Y.Shiraki and R.Ito: "Vacuum Lithography by an focused ion beam exposure of SiNx combined with dry etching." Appl.Phys.Lett.(1991)
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S.Takahashi、M.Ohashi、S.Fukatsu、Y.Shiraki 和 R.Ito：“通过 SiNx 聚焦离子束曝光与干法蚀刻相结合的真空光刻。”
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