Electrical Damage Investigation of n-GaN Films Treated by CF4 Plasma
Electrical Damage Investigation of n-GaN Films Treated by CF4 Plasma
复制标题
CF4 等离子体处理的 n-GaN 薄膜的电损伤研究
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masahito Niibe and Retsuo Kawakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshitaka Nakano;Masahito Niibe and Retsuo Kawakami
