Dependences of effective work functions of TaN on HfO_2 and SiO_2 on post-metalization anneal
Dependences of effective work functions of TaN on HfO_2 and SiO_2 on post-metalization anneal
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TaN对HfO_2和SiO_2的有效功函数对金属化后退火的依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Nakashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Sugimoto;K.Yamamoto;M.Kajiwara;Y.Suehiro;D.Wang;H.Nakashima
