SiO_x films prepared using RF magnetron sputtering with a SiO target
SiO_x films prepared using RF magnetron sputtering with a SiO target
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采用射频磁控溅射 SiO 靶材制备 SiO_x 薄膜
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Goto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Miyazaki;T.Goto
