K.SASAKI et al.: "Limited Reaction Growth of YSZ Thin Films for Gate Insulator"Vacuum. 66. 403-408 (2002)
K.SASAKI et al.: "Limited Reaction Growth of YSZ Thin Films for Gate Insulator"Vacuum. 66. 403-408 (2002)
复制标题
K.SASAKI 等人：“用于栅极绝缘体的 YSZ 薄膜的有限反应生长”真空。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
