Y, Hasegawa, and T. Eguchi: "Potential profile around step edges of Si surfaces measured by nc-AFM"Applied Surface Science. 188. 386-390 (2002)
Y, Hasegawa, and T. Eguchi: "Potential profile around step edges of Si surfaces measured by nc-AFM"Applied Surface Science. 188. 386-390 (2002)
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Y、Hasekawa 和 T. Eguchi：“通过 nc-AFM 测量的 Si 表面阶梯边缘周围的电势分布”应用表面科学。
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