玄 一,黒柳一誠,脇谷尚樹,篠崎和夫,永谷惟恭: "MOCVD法によるPbTiO_3薄膜の成長様式と成膜速度が配向性に及ぼす影響"日本セラミックス協会学術論文誌. 107〔10〕. 955-960 (1999)
玄 一,黒柳一誠,脇谷尚樹,篠崎和夫,永谷惟恭: "MOCVD法によるPbTiO_3薄膜の成長様式と成膜速度が配向性に及ぼす影響"日本セラミックス協会学術論文誌. 107〔10〕. 955-960 (1999)
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Genichi、Issei Kuroyanagi、Naoki Wakiya、Kazuo Shinozaki、Yoshiyasu Nagatani：“生长模式和沉积速率对 MOCVD 法 PbTiO_3 薄膜取向的影响”日本陶瓷学会杂志 107 [10]。 ）
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