Influence of Oxygen Flow Ration on Properties of Zn2SnO4 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering

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氧气流量比对射频磁控溅射沉积Zn2SnO4薄膜性能的影响

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics 44・1
影响因子:
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通讯作者:
Tsutom Yotsuya
Tsutom Yotsuya
中科院分区:
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文献类型:
--
作者:
Kazuo Satoh;Yoshiaharu Kakehi;Akio Okamoto;Shuichi Murakami;Fumihiro Uratani;Tsutom Yotsuya

文献摘要

参考文献

被引文献

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DOI: 10.1143/jjap.43.l439
发表时间: 2004
期刊:
影响因子: --
作者:
Wanji Yu;K. Satoh;H. Kikuta;T. Konishi;T. Yotsuya
通讯作者: T. Yotsuya