T-gate and airbridge fabrication for MMICs by combining multi-voltage electron-beam lithography and ion-beam lithography
T-gate and airbridge fabrication for MMICs by combining multi-voltage electron-beam lithography and ion-beam lithography
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通过结合多电压电子束光刻和离子束光刻来制造 MMIC 的 T 门和空气桥
DOI：
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发表时间：
1992
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Ahmed
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. G. Woodham;R. Jones;D. Hasko;J. Cleaver;H. Ahmed
